新版集成电路布图设计保护条例公布

国务院日前公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，该条例将于2026年10月15日起施行。此次修订距离2001年首次颁布已过去25年，新规在保护范围、侵权赔偿等方面均有显著调整。

条例明确，对集成光子、量子等功能的集成电路布图设计同样给予保护。在权利归属上，合作创作和委托创作的专有权归属规则得到细化，强调以约定优先。针对侵权赔偿，新规引入惩罚性赔偿机制，对故意侵权且情节严重的行为，赔偿数额可在正常标准的基础上提高至5倍。此外，条例对布图设计专有权的保护期作出规定，自申请日或首次商业利用起计算为10年，但自创作完成之日起15年后不再受保护。

从行业背景看，集成电路布图设计是芯片产业的核心知识产权之一，加强对其保护有助于激励研发投入，是完善我国半导体领域法律保障体系的重要举措。